
奥贝尔氧化沟是同心圆三沟结构——外沟最大、中沟中间、内沟最小,污水从外沟流到内沟再出去。这个工艺设计的巧妙之处在于三条沟DO不一样:外沟低氧做反硝化,中沟中等,内沟高氧做硝化。要让三沟DO梯度跑对,每条沟都得装在线DO和污泥浓度仪,再配ORP判断缺氧好氧状态。这篇讲清楚奥贝尔氧化沟为什么这么布点。
普通氧化沟是一个大沟里曝气,DO均匀。奥贝尔是三条同心沟:
外沟(第一沟):占总容积50%~60%,DO控制在0.5~1mg/L,低氧环境做反硝化脱氮,同时去除大部分COD。
中沟(第二沟):DO 1~2mg/L,过渡区,继续硝化和碳化。
内沟(第三沟):DO 2~3mg/L,好氧区,che底硝化,保证出水氨氮达标。
这种DO梯度设计能在一个沟里完成脱氮除磷,不用单独建缺氧池。但前提是三沟DO要控制到位——外沟DO高了反硝化做不了,总氮降不下来;内沟DO低了硝化不che底,氨氮超标。
奥贝尔氧化沟的曝气转碟是分区控制的——外沟转碟开一半,内沟全开。DO数据直接联动转碟转速:
外沟DO高了:反硝化细菌被抑制,总氮降不下来。要减外沟转碟,降低曝气量。
内沟DO低了:硝化细菌活性不够,氨氮超标。要加内沟转碟。
荧光法DO(GNST-DO217):免维护,不用换膜换电解液,插在沟里长期跑。
氧化沟污泥浓度一般3000~5000mg/L,MLSS太高增加曝气能耗,太低处理效果不够:
外沟MLSS高:反硝化需要足够污泥量,一般外沟MLSS比内沟高——因为回流污泥先进外沟。
在线MLSS仪(GNST-MLSS233):红外光散射法,0~50g/L大量程,机械刷自清洁,IP68直接插沟里。
联动排泥:MLSS超过5000mg/L自动排泥,低于3000mg/L停止排泥。
DO数据有时候不够直观——外沟DO显示0.5mg/L,实际氧化还原环境是缺氧还是厌氧?ORP直接测氧化还原电位:
外沟ORP -100~+100mV:缺氧环境,反硝化正常。
外沟ORP +200mV以上:DO太高了,反硝化被抑制。
内沟ORP +200~+400mV:好氧环境,硝化正常。
ORP比DO更灵敏,能反映微生物代谢状态。
都一样高DO,反硝化做不了总氮降不下来;都一样低DO,硝化不che底氨氮超标。梯度设计就是为了在同一个池子里同时完成好氧和缺氧。
氧化沟污泥浓度高,原电池法膜容易堵,几个月就要换膜换电解液。荧光法没有消耗件,探头表面涂荧光物质,光照射测衰减,IP68长期插水里,维护量小。
氧化沟污泥浓度高,光学探头表面容易挂污泥和生物膜,时间长了数据漂移。机械刷自动转动清洁探头表面,3~6个月校准一次。
ORP测的是氧化还原电位,不是单一指标。在缺氧段ORP低,好氧段ORP高。配合DO一起判断生化反应进行到什么程度。
一般5万吨/日以上规模用奥贝尔比较经济,因为三沟结构设计复杂,小规模用转刷曝气池更简单。
监测点位 | DO | MLSS | ORP |
外沟(缺氧) | GNST-DO217,0.5~1mg/L | GNST-MLSS233,3000~5000mg/L | ORP-220A,-100~+100mV |
中沟(过渡) | GNST-DO217,1~2mg/L | GNST-MLSS233 | ORP-220A |
内沟(好氧) | GNST-DO217,2~3mg/L | GNST-MLSS233 | ORP-220A,+200~+400mV |
原理 | 荧光法,0~20mg/L | 红外光散射,0~50g/L | 铂电极,±1999mV |
通讯 | RS485+4-20mA | RS485+4-20mA | RS485+4-20mA |
标准 | HJ/T99-2003 | HJ/T98-2003 | HJ/T96-2003 |